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·半导体工艺应用
全固态射频电源及自动匹配系统为半导体及太阳能薄膜的典型工艺(等离子体刻蚀,PECVD,射频溅射、平行板、射频激光、ICP、RIE、CVD和PVD等工艺)提供频率范围为1MHz至162MHz,功率范围为...
·太阳能薄膜工艺应用
全固态射频电源及自动匹配系统为半导体及太阳能薄膜的典型工艺(等离子体刻蚀,PECVD,射频溅射、平行板、射频激光、ICP、RIE、CVD和PVD等工艺)提供频率范围为1MHz至162MHz,功率范围为...

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