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LED&LCD光源驱动工艺应用
日期:2009/12/1

全固态射频电源及自动匹配系统为半导体及太阳能薄膜的典型工艺(等离子体刻蚀,PECVD,射频溅射、平行板、射频激光、ICP、RIE、CVD和PVD等工艺)提供频率范围为1MHz至162MHz,功率范围为100W至10KW,脉冲调制频率为0至20KHz的射频电源及自动匹配系统。

全固态射频电源及自动匹配系统采用高效率功放工作模式及匹配系统优化算法为半导体及太阳能薄膜典型工艺提供稳定的射频功率及快速的匹配,同时提供消除PECVD工艺中多个电极之间相互干扰的解决方案。


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